Avamprogetti

³L’autorità di vigilanza può eseguire misurazioni a campione su posti di lavoro a rischio radon.

Sezione 3: Provvedimenti volti a ridurre la concentrazione di radon

Art. 175 Risanamento dal radon di edifici di nuova costruzione

¹Se in un edificio di nuova costruzione il livello di riferimento del radon di 300 Bq/m³ di cui all’articolo 164 capoverso 2 è superato, l’autorità competente secondo l’articolo 167 ordina che il risanamento dal radon sia eseguito entro un anno.

Art. 176 Risanamento dal radon di locali di abitazione e di soggiorno in edifi-

ci esistenti

¹Se il livello di riferimento del radon di 300 Bq/m³ di cui all’articolo 164 capoverso 2 è superato, il Cantone ordina il risanamento dal radon:

a. di locali di abitazione e di soggiorno: in base all’urgenza e alla sostenibilità economica nel singolo caso, al più tardi però in occasione della successiva trasformazione che richiede una licenza edilizia;

b. di scuole e scuole dell’infanzia: entro tre anni.

²In singoli casi il Cantone può accordare agevolazioni qualora il risanamento dal radon sia sproporzionato. Questi casi devono essere notificati all’UFSP.

³Entro un anno dal risanamento dal radon, il proprietario provvede all’esecuzione di una misurazione del radon riconosciuta per verificarne l’esito e ne comunica i risultati al Cantone e all’UFSP.

⁴Il proprietario assume i costi del risanamento dal radon.

Art. 177 Provvedimenti sul posto di lavoro

¹Se il valore soglia di 1000 Bq/m³ di cui all’articolo 165 è superato, l’azienda deve accertare la concentrazione di radon integrata su un mese delle persone esposte e controllarla almeno ogni cinque anni.

²Se la concentrazione di radon integrata su un mese di una persona sul posto di lavoro è superiore a 170 kBqh/m³, l’azienda deve prendere provvedimenti organizzativi o tecnici.

³Se, nonostante i provvedimenti, la concentrazione di radon integrata su un mese di una persona sul posto di lavoro è superiore a 170 kBqh/m³, questa persona è considerata professionalmente esposta a radiazioni.